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纳米晶体材料的发展趋势
来源:本站原创 作者:AClean 日期:2018年10月16日 访问次数:

随着电子产品正在向高频、节能、小型、集成化方向发展,应用频率也在不断提高,带材一代代更新。从最初的传统制带工艺(国内现有生产水平)厚度22-30μm,到现在带材发展到三代、四代,用先进制带工艺(国际先进生产水平)可做到14-22μm。而且掌握了更薄的制带技术。纳米晶带材的发展趋势就是超薄带。

 

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一、超薄纳米晶带特性

 

带材越薄损耗越低

 

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二、导磁片批量化生产工艺变革

 

2015年导磁片批量化生产以来,工艺不断变革,由片材逐渐过渡到卷材,大幅提高生产效率,满足不断增长的需求。

 

目前无线充电市场出货量呈几何级爆发增长,而不久的将来,众多旗舰手机将无线充电作为标配功能,接收端的市场也会井喷。

 

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